| 公開(公告)號 | CN1854140A |
| 公開(公告)日 | 2006.11.01 |
| 申請(專利)號 | CN200610077595.6 |
| 申請日期 | 2006.04.28 |
| 專利名稱 | 呋脲芐青霉素鈉晶體及其合成方法 |
| 主分類號 | C07D499/46(2006.01)I |
| 分類號 | C07D499/46(2006.01)I |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2005.4.28 CN 200510066559.5 |
| 申請(專利權(quán))人 | 北京信匯科技有限公司 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人 | 蔣征昊 |
| 地址 | 100085北京市海淀區(qū)上地7街1號匯眾大廈9層 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | |
| 進(jìn)入國家日期 | |
| 專利代理機(jī)構(gòu) | 北京邦信陽專利商標(biāo)代理有限公司 |
| 代理人 | 黃澤雄;邵毓琴 |
| 國省代碼 | 北京;11 |
| 主權(quán)項 | 一種結(jié)構(gòu)式如下的呋脲芐青霉素鈉晶體， 該晶體具有如下X-射線粉末衍射圖譜，該圖譜是由λ＝1.5406銅靶穿過石墨單色儀而獲得的： d I/I0 14.66-15.37 1 9.90-10.08 0.23-0.31 8.67-8.79 0.20-0.34 4.97-5.04 0.44-0.65 4.08-4.14 0.23-0.42 其中d為晶面間距，I/I0為相對強(qiáng)度。 |
| 摘要 | 本發(fā)明涉及高純度的穩(wěn)定的呋脲芐青霉素鈉晶體及其合成方法。該方法操作簡單，生產(chǎn)周期短，有機(jī)溶劑用量少，實現(xiàn)了溶媒結(jié)晶，并且收率達(dá)到了90-95％。經(jīng)高壓液相色譜測定，本發(fā)明的呋脲芐青霉素鈉晶體的純度到達(dá)了91％以上。 |
| 國際公布 |
