| 公開(公告)號 | CN101119997A |
| 公開(公告)日 | 2008.02.06 |
| 申請(專利)號 | CN200680004890.7 |
| 申請日期 | 2006.02.14 |
| 專利名稱 | 碳青霉烯衍生物的制備方法及其中間體結(jié)晶 |
| 主分類號 | C07D477/00(2006.01)I |
| 分類號 | C07D477/00(2006.01)I |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2005.2.15 JP 037088/2005;2005.7.1 JP 193257/2005 |
| 申請(專利權(quán))人 | 鹽野義制藥株式會社 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人 | 上仲正朗;保積靖之;野口耕一;小紫唯史 |
| 地址 | 日本大阪府 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2006-02-14 PCT/JP2006/302482 |
| 進(jìn)入國家日期 | 2007.08.14 |
| 專利代理機(jī)構(gòu) | 中國專利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 熊玉蘭;李平英 |
| 國省代碼 | 日本;JP |
| 主權(quán)項 | 下式所示的化合物(I)、其可藥用鹽、其溶劑化物或它們的結(jié)晶的制備方法， [化3] 式中，R1為羧基保護(hù)基團(tuán)；R2為氨基保護(hù)基團(tuán)； 其特征在于，使式(III)所示的化合物(III)與式(IV)所示的化合物(IV)或其可藥用鹽在仲胺的存在下反應(yīng)，然后根據(jù)需要將羥基保護(hù)基團(tuán)脫保護(hù)， [化1] 式中，R為氫原子或羥基保護(hù)基團(tuán)；R1為羧基保護(hù)基團(tuán)；Ph為苯基； [化2] 式中，R2為氨基保護(hù)基團(tuán)。 |
| 摘要 | 本發(fā)明提供對工業(yè)制備方法有利的碳青霉烯合成中間體。提供以使化合物(III)和化合物(IV)在仲胺的存在下反應(yīng)為特征的化合物(I)、其可藥用鹽、其溶劑化物或它們的結(jié)晶的制備方法以及化合物(I)的苯甲醇合物結(jié)晶等。提供化合物(I)的通過Pd催化劑進(jìn)行的脫保護(hù)法以及化合物(IV)等的結(jié)晶。 |
| 國際公布 | 2006-08-24 WO2006/087996 日 |
