| 公開(公告)號 | CN1922184A |
| 公開(公告)日 | 2007.02.28 |
| 申請(專利)號 | CN200580005426.5 |
| 申請日期 | 2005.02.17 |
| 專利名稱 | 7H-吡咯并嘧啶衍生物 |
| 主分類號 | C07D487/04(2006.01)I |
| 分類號 | C07D487/04(2006.01)I;A61K31/519(2006.01)I;A61P35/00(2006.01)I |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2004.2.18 GB 0403606.7 |
| 申請(專利權(quán))人 | 諾瓦提斯公司 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人 | G·卡拉瓦蒂;A·沃佩爾 |
| 地址 | 瑞士巴塞爾 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2005-02-17 PCT/EP2005/001635 |
| 進入國家日期 | 2006.08.18 |
| 專利代理機構(gòu) | 北京市中咨律師事務(wù)所 |
| 代理人 | 黃革生;林柏楠 |
| 國省代碼 | 瑞士;CH |
| 主權(quán)項 | 式I化合物或其藥學(xué)上可接受的鹽、酯： 其中： R1和R2獨立地為：氫、鹵素；或低級烷基、雜環(huán)、氫基或環(huán)烷基，它們均可以未被取代或被取代； 或R1和R2可以彼此連接形成未被取代或取代的N-雜環(huán)； Y為(R3)n-X-或A(R3)(R3)C-； 其中X為低級烷基、氨基、酰氨基或羰基； A為羥基、氨基、鹵素或低級烷基； R3為低級烷基、低級烷氧基、羰基、氨基、羥基、雜環(huán)或雜芳基，它們均可以未被取代或被取代； n為1或2； R3上的取代基為一個或多個獨立地選自鹵素、低級烷基、低級烷氧基、氨基、羥基和雜環(huán)的取代基；其中，除鹵素外，它們均未被取代或被一個或多個獨立地選自鹵素、羥基、低級烷氧基、氨基、低級烷基和雜環(huán)的取代基取代；其中，除鹵素外，它們均未被取代或被一個或多個獨立地選自鹵素、低級烷基、低級烷氧基、羥基和低級烷氧基的取代基取代； R1和R2上的取代基為一個或多個獨立地選自鹵素、羥基、低級烷基、低級烷氧基、氨基、環(huán)烷基、雜環(huán)和雜芳基的取代基；其中，除鹵素外，它們均未被取代或被一個或多個獨立地選自鹵素、羥基、低級烷基、低級烷氧基、氨基、雜環(huán)和雜芳基的取代基取代；其中，除鹵素外，它們均未被取代或被一個或多個獨立地選自鹵素、羥基、低級烷基和氨基的取代基取代。 |
| 摘要 | 本發(fā)明涉及式(I)的7H-吡咯并[2，3-d]嘧啶衍生物，其中符號和取代基如說明書中所定義，以及其制備方法，包含這類衍生物的藥物組合物以及這類衍生物單獨或與一種或多種其它藥學(xué)活性化合物組合在制備用于治療尤其是增殖性疾病如腫瘤的藥物組合物中的用途。 |
| 國際公布 | 2005-08-25 WO2005/077951 英 |
