| 公開(公告)號 | CN1777590A |
| 公開(公告)日 | 2006.05.24 |
| 申請(專利)號 | CN200480010488.0 |
| 申請日期 | 2004.07.30 |
| 專利名稱 | 吲唑衍生物 |
| 主分類號 | C07D231/56(2006.01)I |
| 分類號 | C07D231/56(2006.01)I;C07D401/12(2006.01)I;C07D401/14(2006.01)I;C07D413/12(2006.01)I;C07D413/14(2006.01)I;C07D491/113(2006.01)I;A61K31/416(2006.01)I;A61K31/438(2006.01)I;A61K31/496(2006.01)I;A61K31/5377(2006.01)I;A61P35/02(2006.01)I |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2003.7.30 JP 203508/2003 |
| 申請(專利權(quán))人 | 協(xié)和發(fā)酵工業(yè)株式會社 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人 | 太田義久;金井文彥;奈良真二;神田裕;梅原浩司;鹽津行正;直江知樹;清井仁;川島惠子;安藤宏美;深山干 |
| 地址 | 日本東京 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2004-07-30 PCT/JP2004/011287 |
| 進(jìn)入國家日期 | 2005.10.19 |
| 專利代理機(jī)構(gòu) | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 |
| 代理人 | 王 健 |
| 國省代碼 | 日本;JP |
| 主權(quán)項(xiàng) | 以式(I) [式中R1表示CONR1aR1b(式中R1a及R1b相同或不同，表示氫原子、取代或非取代的低級烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的芳烷基或取代或非取代的雜環(huán)基，或R1a及R1b和鄰接的氮原子一起形成取代或非取代的雜環(huán)基)或NR1cR1d(式中，R1c表示取代或非取代的低級烷基磺酰基或取代或非取代的芳基磺�；琑1d表示氫原子或取代或非取代的低級烷基)， R2表示氫原子、鹵素、氰基、硝基、羥基、羧基、低級烷氧羰基、取代或非取代的低級烷基、取代或非取代的低級烷氧基、取代或非取代的低級烷�；�、CONR2aR2b(式中，R2a及R2b相同或不同，表示氫原子、取代或非取代的低級烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的芳烷基或取代或非取代的雜環(huán)基，或R2a及R2b和鄰接的氮原子一起形成取代或非取代的雜環(huán)基)或NR2cR2d(式中，R2c及R2d表示相同或不同，表示氫原子、取代或非取代的低級烷基、取代或非取代的低級烷�；�、取代或非取代的芳酰基、取代或非取代的雜芳酰基、取代或非取代的芳烷基、取代或非取代的低級烷基磺�；蛉〈蚍侨〈姆蓟酋；�)]所表示的吲唑衍生物或其藥理學(xué)所容許的鹽。 |
| 摘要 | 本發(fā)明提供用式(I)，[式中R1表示CONR1aR1b(式中R1a及R1b相同或不同，表示氫原子，取代或非取代的低級烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的芳烷基或取代或非取代的雜環(huán)基，或R1a及R1b和鄰接的氮原子一起形成取代或非取代的雜環(huán)基)等，R2表示氫原子、CONR2aR2b(式中，R2a及R2b相同或不同，表示氫原子、取代或非取代的低級烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的芳烷基或取代或非取代的雜環(huán)基，或R2a及R2b和鄰接的氮原子一起形成取代或非取代的雜環(huán)基)、NR2cR2d(式中，R2c及R2d表示相同或不同，表示氫原子，取代或非取代的低級烷基、取代或非取代的低級烷�；⑷〈蚍侨〈姆减；⑷〈蚍侨〈碾s芳�；�、取代或非取代的芳烷基、取代或非取代的低級烷基磺�；蛉〈蚍侨〈姆蓟酋�)]所表示的吲唑衍生物或其藥理學(xué)所容許的鹽。 |
| 國際公布 | 2005-02-10 WO2005/012257 日 |
