| 公開(公告)號 | CN1753896A |
| 公開(公告)日 | 2006.03.29 |
| 申請(專利)號 | CN200380109937.2 |
| 申請日期 | 2003.12.23 |
| 專利名稱 | 新型化合物和其用途 |
| 主分類號 | C07D487/22(2006.01)I |
| 分類號 | C07D487/22(2006.01)I;A61K31/409(2006.01)I;A61P31/04(2006.01)I |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2002.12.23 GB 0229742.2 |
| 申請(專利權(quán))人 | 命運之神藥品有限公司;索爾維亞斯股份公司 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人 | D·布倫迪什;X·D·馮;W·洛夫;W·里斯-威廉斯;B·皮然 |
| 地址 | 英國布賴頓 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2003-12-23 PCT/GB2003/005649 |
| 進入國家日期 | 2005.08.23 |
| 專利代理機構(gòu) | 中國專利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 劉維升;李連濤 |
| 國省代碼 | 英國;GB |
| 主權(quán)項 | 式I的化合物： 其中： X1，X2，X3和X4獨立地代表氫原子，親脂性片斷，苯基，低級烷基，烷芳基或芳烷基，或下式的陽離子基團： -L-R1-N+(R2)(R3)R4 其中： L是連接片斷或者不存在； R1代表低級亞烷基、低級亞烯基或低級亞炔基，其任選被一個或多個選自低級烷基、低級亞烷基(任選被氧間隔)、氟、OR5、C(O)R6、C(O)OR7、C(O)NR8R9、NR10R11和N+R12R13R14的取代基取代；和 R2、R3和R4獨立地代表H，芳基，低級烷基，低級烯基或低級炔基，后三者任選被一個或多個選自低級烷基、低級亞烷基(任選被氧間隔)、芳基、OR5、C(O)R6、C(O)OR7、C(O)NR8R9、NR10R11和N+R12R13R14的取代基取代； Z是-CH或N；和 Y1、Y2、Y3和Y4不存在或者獨立地代表芳基，低級烷基，低級烯基或低級炔基，后三者任選被一個或多個選自低級烷基、低級亞烷基(任選被氧間隔)、芳基、OR5、C(O)R6、C(O)OR7、C(O)NR8R9、NR10R11和N+R12R13R14的取代基取代；和 R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13和R14獨立地代表H或低級烷基， 條件是X1、X2、X3和X4中的至少一個是如上定義的陽離子基團，且X1、X2、X3和X4中的至少一個是氫原子。 |
| 摘要 | 式(I)的化合物：其中X1，X2，X3，X4，Y1，Y2，Y3，Y4和Z的定義如說明書所述，和這種化合物的金屬化形式，其可用于需要光動力學(xué)化合物的醫(yī)學(xué)狀況的治療中。還公開了藥物制劑和治療那些需要光動力學(xué)試劑的醫(yī)學(xué)狀況的方法。還公開了包含本發(fā)明化合物的消毒液，和其用途。 |
| 國際公布 | 2004-07-08 WO2004/056828 英 |
